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这篇论文深入探讨了[[铁电异质结构]]中的[[负电容]]效应，旨在为超低功耗微电子技术的发展提供理论基础和实验指导。主要内容包括：
# '''负电容效应的重要性'''：介绍了负电容在[[场效应晶体管]]（FETs）中的应用，以及其在突破亚阈值摆动（SS）下限方面的潜力，进而实现超低功耗微电子技术。
# '''铁电负电容的争议性'''：分析了铁电材料中负电容效应的争议性，以及在实验中观察到的负电容特性可能的其他机制。
# '''理论模型与分析'''：利用[[Landau-Devonshire理论]]严格分析了铁电/介电异质结构中的负电容效应，确定了影响负电容稳定性的关键介电层厚度和电场窗口。
# '''实验观察与讨论'''：讨论了在不同介电层厚度下，负电容的稳定性和电场窗口的变化，以及在特定条件下负电容的非滞后或滞后特性。
# '''结论与展望'''：总结了铁电负电容可以在适当的电场窗口内通过线性介电层稳定，并指出了第二阶铁电相变中负电容效应的简化行为，为器件应用提供了可能的优选方案。